Hastelloy C2000 (sering disingkat sebagai C2000) adalah superalloy nikel-chromium-molybdenum-tembaga (Ni-cr-mo-cu) yang dibangunkan oleh Haynes International sebagai sebahagian daripada keluarga Hastelloy. Ia direkayasa untuk rintangan kakisan yang luar biasa dalam pelbagai persekitaran yang agresif, menggabungkan sifat terbaik aloi C-jenis terdahulu (seperti C276 dan C22) dengan prestasi yang dipertingkatkan dalam bahan kimia tertentu.
Ciri -ciri utama C2000 termasuk:
Komposisi kimia: Biasanya ~ 59% nikel (NI), 23-27% kromium (CR), 15-17% molibdenum (MO), 1-2% tembaga (Cu), dan kurang daripada atau sama dengan besi 3% (Fe). Penambahan tembaga adalah kritikal, kerana ia meningkatkan ketahanan terhadap asid sulfurik dan asid pengurangan yang lain.
Rintangan kakisan: Excels dalam kedua-dua pengoksidaan (contohnya, asid nitrik, hipoklorit) dan mengurangkan (contohnya, asid sulfurik, asid fosforik), menjadikannya sangat serba boleh untuk sistem asid campuran. Ia juga menentang pitting, kakisan crevice, dan stres cracking kakisan (SCC) dalam penyelesaian kaya klorida (misalnya, air laut, brines).
Sifat mekanikal: Kekuatan tegangan yang baik (~ 700 MPa muktamad) dan kemuluran, dengan prestasi yang stabil merentasi julat suhu yang luas (dari cryogenic hingga ~ 870 darjah /1,600 darjah F). Ia boleh dikimpal dan boleh dibentuk dengan teknik yang betul.
C2000 terutamanya dinilai dalam industri di mana pendedahan kepada campuran kimia kompleks (contohnya, pemprosesan kimia, farmaseutikal) menuntut keseimbangan pengoksidaan dan rintangan pengurangan.
Hastelloy C2000 mempunyai beberapa kesamaan antarabangsa, yang ditakrifkan oleh sistem klasifikasi bahan piawai:
UNS (sistem penomboran bersatu): UNS N06200 (penamaan utama untuk C2000 di Amerika Utara).
Din/en (Jerman/Eropah): W.nr . 2.4675 (penamaan berangka yang digunakan dalam piawaian Eropah).
ISO (Organisasi Antarabangsa untuk Standardisasi): ISO 15156-3 (mengklasifikasikan C2000 di bawah kategori aloi berasaskan nikel untuk aplikasi minyak dan gas).
Piawaian Cina: NS3405 (gred setara dalam sistem standard bahan kebangsaan China).
Kesamaan ini memastikan konsistensi lintas industri dan global, mengesahkan bahawa bahan tersebut memenuhi kriteria kimia dan prestasi yang sama seperti Hastelloy C2000, walaupun di bawah sebutan serantau yang berbeza.
Hastelloy C2000 dilindungi oleh pelbagai piawaian antarabangsa ASTM, setiap keperluan yang ditentukan untuk bentuk produk yang berbeza (misalnya, paip, lembaran, bar). Piawaian utama termasuk:
ASTM B575: Spesifikasi standard untuk aloi nikel-chromium-molybdenum-columbium (UNS N06625, N06022, N06059, N06985, N07041, N07081, N07718, dan N06200)
Terpakai kepada C2000 dalam plat, lembaran, dan bentuk jalur, menggariskan komposisi kimia, sifat mekanik (kekuatan tegangan, pemanjangan), dan keperluan ujian.
ASTM B622: Spesifikasi standard untuk aloi nikel-chromium-molybdenum-columbium (UNS N06625) dan aloi nikel-chromium-molybdenum-tungsten (UNS N06022, N06200)
Mengawal paip dan tiub yang lancar yang dibuat dari C2000, termasuk toleransi dimensi, ujian tekanan, dan peperiksaan yang tidak merosakkan.
ASTM B619: Spesifikasi standard untuk aloi nikel-chromium-molybdenum-columbium yang dikimpal (UNS N06625) dan nikel-chromium-molybdenum-tungsten aloi (UNS N06022, N06200)
Meliputi paip dan tiub yang dikimpal C2000, menyatakan prosedur kimpalan, kekuatan bersama, dan pengesahan rintangan kakisan.
ASTM B564: Spesifikasi standard untuk aloi nikel-chromium-molybdenum-columbium (UNS N06625) dan aloi nikel-chromium-molybdenum-tungsten (UNS N06022, N06200)
Terpakai kepada produk C2000 palsu (contohnya, bebibir, injap), memperincikan proses penempaan, rawatan haba, dan ujian mekanikal.
ASTM B366: Spesifikasi standard untuk kelengkapan aloi nikel dan nikel
Termasuk kelengkapan C2000 (contohnya, siku, tees), memastikan mereka memenuhi standard dimensi dan prestasi untuk sistem tekanan tinggi.
Piawaian ini memastikan bahawa produk C2000, tanpa mengira bentuk, mematuhi kriteria kualiti dan prestasi yang ketat untuk kegunaan yang selamat dan boleh dipercayai dalam aplikasi kritikal.
