Rintangan Kakisan Monel K500 kepada Asid Kuat Seperti Asid Hidroklorik dan Asid Sulfurik
1. Ketahanan Kakisan kepada Asid Hidroklorik
Cairkan asid hidroklorik (kepekatan Kurang daripada atau sama dengan 5%) pada suhu bilik: Tanpa ketiadaan udara atau agen pengoksidaan, Monel K500 menunjukkan kadar kakisan yang rendah ( Kurang daripada atau sama dengan 0.1 mm/tahun) dan rintangan kakisan yang baik. Unsur kuprum dalam aloi membentuk filem klorida kuprum yang nipis dan padat di permukaan, yang boleh menghalang kakisan selanjutnya matriks. Walau bagaimanapun, jika larutan diudara atau mengandungi ion pengoksida (cth, Fe³⁺, Cu²⁺), filem pempasifan akan dimusnahkan, dan kadar kakisan akan meningkat dengan ketara.
Asid hidroklorik pekat (kepekatan > 10%) atau suhu tinggi: Monel K500 tidak dapat menahan kakisan dalam persekitaran ini. Apabila suhu melebihi 60 darjah, walaupun asid hidroklorik cair akan menyebabkan kakisan seragam yang teruk atau kakisan pitting aloi, disertai dengan evolusi hidrogen. Dalam asid hidroklorik pekat, kadar kakisan boleh melebihi 1 mm/tahun, membawa kepada penipisan cepat atau kegagalan bahan.
Had aplikasi industri: Monel K500 tidak disyorkan untuk peralatan yang bersentuhan langsung dengan asid hidroklorik pekat atau asid hidroklorik cair panas. Ia hanya boleh digunakan dalam senario tertentusistem asid hidroklorik cair yang dimeterai dan dinyahair pada suhu bilik.
2. Ketahanan Kakisan kepada Asid Sulfurik
Cairkan asid sulfurik (kepekatan Kurang daripada atau sama dengan 10%) pada suhu bilik: Sama seperti asid hidroklorik cair, Monel K500 mempunyai rintangan kakisan yang baik dalam asid sulfurik cair ternyah, dengan kadar kakisan kurang daripada 0.05 mm/tahun. Unsur nikel dan kuprum dalam aloi secara sinergi membentuk filem sulfat pelindung, yang mengasingkan matriks daripada medium menghakis.
Kepekatan sederhana-asid sulfurik (10% < kepekatan < 70%): Kekakisan asid sulfurik meningkat dengan mendadak dalam julat ini. Pada suhu bilik, kadar kakisan Monel K500 boleh mencapai 0.5–2 mm/tahun; apabila suhu meningkat kepada 50 darjah atau lebih tinggi, kakisan pitting dan kakisan antara butiran cenderung berlaku, yang tidak sesuai untuk perkhidmatan jangka-panjang.
Asid sulfurik pekat (kepekatan Lebih besar daripada atau sama dengan 90%) pada suhu bilik: Asid sulfurik pekat mempunyai sifat pengoksidaan yang kuat, yang boleh menjadikan permukaan Monel K500 membentuk filem pempasifan padat yang terdiri daripada nikel sulfat dan kuprum sulfat, dengan itu menunjukkan rintangan kakisan yang sangat baik (kadar kakisan Kurang daripada atau sama dengan 0.02 mm/tahun). Ini kerana persekitaran pengoksidaan yang kuat menstabilkan filem pempasifan dan menghalangnya daripada dibubarkan oleh asid. Walau bagaimanapun, apabila suhu melebihi 80 darjah, filem pempasifan akan kehilangan kesan perlindungannya, dan aloi akan mengalami kakisan yang teruk.
Petua aplikasi industri: Monel K500 boleh digunakan untuk komponen dalamsuhu bilik-sistem asid sulfurik pekat(cth, lapisan tangki simpanan, injap saluran paip), tetapi mesti dielakkan daripada menyentuh-asid sulfurik kepekatan sederhana atau asid sulfurik pekat panas.
3. Faktor Utama Yang Mempengaruhi Rintangan Kakisan
Keadaan pengudaraan: Oksigen dalam larutan asid merupakan faktor utama mempercepatkan kakisan. Penyahudaraan boleh meningkatkan dengan ketara rintangan kakisan Monel K500 dalam asid cair; sebaliknya, pengudaraan akan menyebabkan kakisan setempat.
Suhu: Kenaikan suhu akan meningkatkan kadar kakisan secara eksponen. Bagi kebanyakan media asid, kadar kakisan Monel K500 berganda untuk setiap peningkatan suhu 20 darjah.
Ion kekotoran: Kehadiran Cl⁻, Br⁻, Fe³⁺ dan ion lain akan memusnahkan filem pempasifan pada permukaan aloi, mendorong kakisan pitting dan retakan kakisan tegasan.
