C12200 dan C11000 Tembaga Alloys

1. Komposisi Kimia (Perbezaan Teras)

Perbezaan utama terletak padakandungan oksigen dan kawalan kekotoran, yang secara langsung memberi kesan kepada prestasi mereka.

Elemen	C11000 (UNS)	C12200 (UNS)
Tembaga (Cu)	Lebih besar daripada atau sama dengan 99.90% (min)	Lebih besar daripada atau sama dengan 99.90% (min)
Oksigen (o)	Kurang daripada atau sama dengan 0.001% (max) - "oksigen - tembaga percuma (OFC)"	0.02-0.04% (tipikal) - "oksigen - tembaga galas"
Fosforus (P)	Kurang daripada atau sama dengan 0.005% (kesan kekotoran)	0.015-0.040% (sengaja ditambah)
Jumlah kekotoran	Kurang daripada atau sama dengan 0.10% (max)	Kurang daripada atau sama dengan 0.10% (max)

C11000: Ultra - kandungan oksigen rendah (<0.001%) and no intentional alloying elements. Impurities (Fe, Pb, Zn, Ni) are strictly controlled to ensure purity.

C12200: Juga dipanggil "fosforus - tembaga deoksida" atau "tembaga DHP" (fosforus tinggi deoksida). Fosforus ditambah untuk mengeluarkan oksigen semasa peleburan, mengakibatkan kandungan oksigen sederhana (0.02-0.04%).

2. Klasifikasi Kandungan Oksigen & Ciri Berkaitan

Kategori	C11000	C12200
Klasifikasi oksigen	Oksigen - tembaga percuma (OFC)	Oksigen - bearing/deoxidized tembaga
Kesan utama oksigen	Oksigen rendah menghalang "pelemalan hidrogen" (retak di persekitaran hidrogen suhu tinggi -)	Fosforus - Struktur deoksida mengelakkan peluasan di kebanyakan persekitaran tetapi mudah terdedah kepada retak hidrogen jika dipanaskan di atas 300 darjah dalam hidrogen - atmosfera yang kaya

Risiko pelindung hidrogen:

C11000: Tahan kepada pelindung hidrogen, menjadikannya sesuai untuk tinggi - vakum suhu atau hidrogen - yang mengandungi aplikasi (misalnya, tiub vakum, peralatan semikonduktor).

C12200: Vulnerable to hydrogen embrittlement if exposed to hydrogen at temperatures >300 darjah (contohnya, dalam penukar haba dengan gas hidrogen), kerana fosforus tidak dapat menghapuskan sepenuhnya oksigen - risiko yang berkaitan dalam keadaan yang melampau.

3. Ciri -ciri Mekanikal & Fizikal

Harta (keadaan anil, 20 darjah)	C11000	C12200
Kekonduksian elektrik	Lebih besar daripada atau sama dengan 100% IACs (Cemerlang)	IACs 85-90% (baik)
Kekonduksian terma	≈ 391 w/m · k (unggul)	≈ 330 w/m · k (baik)
Kekuatan tegangan	220-260 MPa	230-270 MPa (sedikit lebih tinggi)
Kekuatan hasil (0.2% mengimbangi)	69-90 MPa	70-95 MPa (sedikit lebih tinggi)
Pemanjangan (dalam 50 mm)	Lebih besar daripada atau sama dengan 45% (kemuluran yang sangat baik)	Lebih besar daripada atau sama dengan 40% (kemuluran yang baik)
Kekerasan (HB)	40–60	45-65 (sedikit lebih sukar)

Takeaways utama:

C11000 mempunyaiKekonduksian elektrik/haba yang lebih baikkerana kesucian yang lebih tinggi dan ultra - kandungan oksigen rendah - kritikal untuk aplikasi yang memerlukan pemindahan tenaga maksimum (misalnya, konduktor elektrik, bar).

Tawaran C12200kekuatan dan kekerasan yang sedikit lebih tinggiOleh kerana kehadiran fosforus, menjadikannya lebih tahan lama dalam aplikasi tekanan mekanikal (contohnya, kelengkapan paip, injap).

info-449-439 info-439-446

4. Pemprosesan & Fabrikasi

Kaedah pemprosesan	C11000	C12200
Kebolehkalasan	Cemerlang (arka, gas, kimpalan rintangan); Tiada post - Pengeluar kimpalan	Baik (arka, kimpalan gas); Fosforus boleh menyebabkan kelembutan sedikit kimpalan jika tidak dikawal - terbaik untuk Brazing/Soldering
Kebolehkerjaan	Adil (memerlukan pelinciran untuk mengelakkan gempa bumi)	Lebih baik daripada C11000 (fosforus meningkatkan pembentukan cip, mengurangkan alat alat)
Kebolehbaburan	Cemerlang (mudah bengkok, ditarik, dicap, mendalam - ditarik)	Bagus (boleh ditubuhkan tetapi kurang mulur daripada C11000 untuk pembentukan yang melampau)
Tindak balas penyepuhlindapan	Melembutkan pesat pada 400-500 darjah; mengekalkan kemuluran selepas penyepuhlindapan	Suhu penyepuhlindapan yang sama (400-550 darjah); mengekalkan kekuatan sedikit lebih tinggi - penyepuhlindapan

5. Pematuhan piawaian

Jenis standard	C11000	C12200
Piawaian ASTM	ASTM B152 (lembaran/plat), ASTM B187 (Rod/Wire), ASTM B280 (tiub)	ASTM B152 (lembaran/plat), ASTM B187 (ROD/WIRE), ASTM B280 (tiub), ASTM B301 (PIPE)
Piawaian Eropah	BS EN 1976 (Cu - etp, tetapi C11000 lebih dekat dengan Cu - dari)	BS EN 1976 (Cu - DHP)
Setara lain	JIS H3100 C1100 (Jepun), GB/T 5231 T2 (China, anggaran)	JIS H3100 C1220 (Jepun), GB/T 5231 TP2 (China)

6. Aplikasi biasa (industri - spesifik)

C11000 (oksigen - kekonduksian yang tinggi, tinggi)	C12200 (deoxidized, kekuatan/proses seimbang)
- Konduktor Elektrik (Busbars, Cable, Wiling Transformer)	- sistem paip/paip (air minum, garisan gas)
- peralatan semikonduktor (ruang vakum, elektrod)	- Injap, kelengkapan, dan bebibir (paip perindustrian)
- tinggi - penyambung kekerapan (komponen RF, telekomunikasi)	- penukar haba (penyaman udara, penyejukan)
- tiub vakum dan peranti elektron	- radiator automotif dan sistem penyejukan
- Peralatan Perubatan (Instrumen Pembedahan, Alat Diagnostik)	- Perkakasan dan pengikat (kacang, bolt, pencuci)

7. Kos & Ketersediaan

C11000: Kos yang lebih tinggi disebabkan oleh proses peleburan yang lebih ketat (oksigen - pengeluaran percuma) dan keperluan kesucian. Biasanya terdapat dalam bentuk khusus (misalnya, ultra - lembaran nipis, wayar ketepatan) untuk aplikasi prestasi tinggi -.

C12200: Kos yang lebih rendah dan lebih banyak tersedia (tembaga komersial standard). Dikenakan untuk aplikasi Umum - di mana kekonduksian maksimum atau rintangan hidrogen tidak diperlukan.

Ringkasan Perbezaan Teras

Aspek	C11000	C12200
Kandungan oksigen	Ultra - rendah (<0.001%)	Sederhana (0.02-0.04%, fosforus - deoxidized)
Kekonduksian	Unggul (lebih besar daripada atau sama dengan 100% IACs)	Bagus (85-90% IACs)
Hidrogen Embrittlement	Tahan	Susceptible at >300 darjah dalam hidrogen
Kekuatan/kekerasan	Lebih rendah	Sedikit lebih tinggi
Kebolehkerjaan	Adil	Lebih baik
Kos	Lebih tinggi	Lebih rendah
Kes penggunaan utama	Tinggi - kekonduksian, persekitaran vakum/hidrogen	Umum - tujuan, paip, komponen mekanikal

Perbandingan ini membantu dalam memilih aloi yang betul berdasarkan keperluan aplikasi: Pilih C11000 untuk kekonduksian maksimum atau rintangan hidrogen, dan C12200 untuk kos - prestasi yang berkesan, seimbang dalam penggunaan perindustrian atau komersil umum.

Aloi tembaga C12200 dan C11000